Elektriliste küttetorude galvaniseerimine keemiliste omaduste peenhäälestamiseks
Jäta sõnum
Elektriliste küttetorude galvaniseerimine keemiliste omaduste peenhäälestamiseks
Plasma pinnatöötlustehnoloogia sobib materjalidele nagu kiud, polümeerid ja plastid. Seda saab kasutada ka metalli, plasti ja keraamiliste materjalide pinnaosade puhastamiseks, aktiveerimiseks ja söövitamiseks, et muuta materjali pinna füüsikalisi omadusi.
Kui on lisatud väike kogus keemilist gaasi, saab materjali pinna keemilisi omadusi peenhäälestada, et parandada materjali pinnafunktsiooni, pakkudes lisaväärtusega funktsioone, nagu hüdrofiilsed või hüdrofoobsed, kergesti puhastatavad, saastumisvastased või elektrostaatiliste materjalide pinna reguleerimine. See tehnoloogia pälvis 2014. aastal Hongkongi tööstuse ja kaubanduse auhindade teenetemärgi.
Hapnikuaatomi modifikatsioon galvaniseeriva elektriküttetoru silikoonpinnal
Tootmisnõukogu nutika tootmise ja materjalitehnoloogia osakonna vanemkonsultant dr Lo Wai-yin tõi välja, et staatilise elektri mõju tõttu on üldine silikageel tolmune. Kui tootjad kasutavad traditsioonilisi keemilisi pindamismeetodeid, võib tolmukindlate ja määrivate katete mõju kesta vaid paar kuud.
Uus meetod on plasmaenergia kasutamine hapnikuaatomite muutmiseks silikageeli pinnal ja negatiivse elektroodi silikageeli pinna muutmiseks positiivseks elektroodiks. Protsessis kasutatakse kahjutuid orgaanilisi kemikaale ja ei eraldu saastavaid jäätmeid, seega on tegemist puhta tootmisprotsessiga. Madala staatilise elektri ja kõrge tolmukindla efektiga sobib see tippklassi toodetele, nagu prilliraamid, kellarihmad jne. Seda saab kasutada ka meditsiiniseadmetes ja sporditoodetes, et need tooted oleksid paremad. .
Elektrilise galvaanilise kuumutustoru silikageeli pinnal on hapnikuaatomid
Teoreetiliselt on silikageeli pinnal hapnikuaatomid negatiivsete elektroodide ja staatilise elektriga ning tolmuosakesed positiivsete elektroodidega, mistõttu võivad tolmuosakesed ja silikageeli elektrostaatiline pind üksteist ligi tõmmata, muutes pinna tolmuseks ja raskesti puhastatav, mis mõjutab toote välimust ja tõhusust.
Vastuseks probleemile, et silikageeli pind on tolmune, on HKPC uurimis- ja arendusmeeskond töötanud lahenduste kallal. Leiti, et plasma pinna modifitseerimise tehnoloogia kasutamine võib jõudlust parandada. Lõpuks kasutati toote optimeerimiseks edukalt plasma abil keemilist aurustamise-sadestamise (PECVD) tehnoloogiat. Pinna omaduste mõju.
www.superbheater.com
