Kuidas valida ränimolübdeenvarraste keraamilist kiudkütteseadet töötingimuste alusel?

Kuidas valida ränimolübdeenvarraste keraamilist kiudkütteseadet töötingimuste alusel?

Oksüdatsioonikindlus kõrgel temperatuuril: Kõrge temperatuuriga oksüdatsiooniatmosfääris moodustub komponendi pinnale tihe kvartsist (SiO2) kaitsekiht, et vältida MoSi2 edasist oksüdeerumist. Kui komponendi temperatuur ületab 1700 kraadi ja SiO2 sulamistemperatuur on 1710 kraadi, sulab SiO2 pindpinevuste mõjul tilkadeks ja kaotab kaitsva toime. Kui komponent on oksüdeerivas atmosfääris ja seda jätkatakse, regenereeritakse SiO2 kaitsekiht.

Tuleb märkida, et molübdeensilitsiidist elektrikütteelemente ei tohi pikka aega kasutada vahemikus 400-700 kraadi, vastasel juhul elemendid pulbristuvad madalatel temperatuuridel tugeva oksüdatsiooniefekti tõttu.

- Oksüdatsioonikile hävitamise etapp

(1) Oksiidkile moodustumise etapp. Algstaadiumis sulam oksüdeerub kiiresti ja pärast maksimaalse oksüdatsioonikiiruse saavutamist hakkab oksüdatsioonikiirus aeglustuma. Kui pinnale moodustub pidev oksiidkile, aeglustub oksüdatsioonikiirus jätkuvalt ja oksüdatsioon läheb teise etappi.

Selles etapis on oksüdatsioonikiiruse ja aja vaheline seos mittelineaarne ning oksiidkile on Shen-kiht

Struktuur.

Oksiidkile moodustumise varases staadiumis ühinevad tseesium, räni, kroom ja teised sulamis sisalduvad kergesti oksüdeeruvad elemendid kiiresti hapnikuga, moodustades vastavad oksiidid. Need oksiidid kinnituvad sulami pinnale, moodustades pideva oksiidkile. Samal ajal hajuvad sulamis olevad elemendid nagu alumiinium, räni, kroom pinnale ja kogunevad esialgse oksiidkile alla\

(2) Oksiidkile stabiilne staadium. Pärast pideva oksiidkile moodustumist sulami pinnale väheneb hapniku läbitungimise kiirus sulami sisemusse. Sel hetkel on veel väike kogus hapnikku, mis võib läbida oksüdatsioonireaktsiooni oksiidkile all rikastatud sulami elementidega, moodustades sisemise oksiidikihi ja

Selles etapis sulam oksüdeerub väga aeglaselt. Pärast pikaajalist kõrgel temperatuuril toimimist suureneb oksiidkile tihedus ja paksus. Sulami oksüdatsioon on lineaarselt seotud ajaga

Oksiidkile muutub kahekihiliseks sisemise ja välimise kihiga struktuuriks.

Mida pikem on oksiidkile stabiilne faasiaeg, seda pikem on sulami kasutusiga.

(3) Oksiidkile hävitamise etapp. Kui sulami sisemine oksüdatsioon areneb teatud piirini, hakkavad oksiidkilesse tekkima praod. Pragude ilmnemisel siseneb sulamisse suur hulk hapnikku ning suured osakesed nagu raud, alumiinium, räni ja kroom oksüdeeritakse, soodustades oksüdatsioonikiiruse kiiret suurenemist. Samal ajal hakkavad oksiidkilesse tekkima praod, mis lõpuks põhjustavad kahjustusi

Kokkuvõttes peegeldab takistusriba oksüdatsiooniprotsess elektrilise kütteelemendi kahjustusprotsessi. Kaitsev oksiidkile rajamine ja sulami oksüdatsioonistabiilsuse etapi väljatöötamine on takistusriba kasutusea pikendamisel väga oluline.

Www.superbheater.com