Vaakumkatmismasin on reaktsioon, mis ei toimu ainult detaili pinnal
Jäta sõnum
Vaakumkatmismasin on reaktsioon, mis ei toimu ainult detaili pinnal
Isolaatorite magnetron-reaktiivne pihustamine tundub lihtne, kuid tegelik toimimine on keeruline. Peamine probleem seisneb selles, et reaktsioon ei toimu mitte ainult detaili pinnal, vaid ka anoodil, vaakumkambri pinnal ja sihtallika pinnal. See põhjustab tulekustutust, sihtallika ja tooriku pinna kaare teket ja nii edasi. Leyboldi Saksamaal leiutatud topeltsihtallika tehnoloogia lahendab selle probleemi väga hästi. Põhimõte seisneb selles, et sihtallikate paar on teineteise katood ja anood, välistades sellega anoodipinna oksüdeerumise või nitridimise. Jahutamine on vajalik kõikide allikate jaoks (magnetron, multikaar, ioonid), sest suur osa energiast muundub soojuseks. Kui jahutus puudub või jahutus on ebapiisav, tõstab see kuumus sihtallika temperatuuri üle 1,000 kraadi ja sulatab kogu sihtallika. .
Vaakumkatja leiutas magnetroni reaktiivse pihustamise
Metalle ja sulameid on lihtne pihustada magnetroni sihtmärgi allikatega ning mugavad on süütamine ja pihustamine. Selle põhjuseks on asjaolu, et pihustatud osa sihtmärk (katood), plasma ja vaakumkamber võivad moodustada vooluringi. Kuid isolaatorite, näiteks keraamika, pritsimisel on vooluahel katki. Seega kasutavad inimesed kõrgsageduslikku toiteallikat ja lisavad ahelasse tugeva kondensaatori. Sel viisil muutub sihtmaterjal isolatsiooniahelas kondensaatoriks.
Kõrgsagedusliku magnetroni pihustustoiteallikas on aga kallis, pihustuskiirus on väga väike ja maandustehnoloogia on väga keeruline, mistõttu on seda raske suures mahus kasutada. Selle probleemi lahendamiseks leiutati magnetron-reaktiivne pihustus. See tähendab, kasutades metallist sihtmärki, lisades argooni ja reaktiivset gaasi nagu lämmastik või hapnik. Kui metallist sihtmärk tabab detaili, ühineb see reaktiivgaasiga, moodustades energia muundamise tõttu nitriide või oksiide.
www.superbheater.com
