Vaakumkroomkatte eluiga on vaakumkattega plaadistuse lahutamatu

Vaakumkroomkatte eluiga on vaakumkattega plaadistuse lahutamatu

Vaakumgalvaaniline katmine hõlmab peamiselt mitut tüüpi: vaakumaurustamine, pihustamine ja ioonplaatimine. Neid kõiki kasutatakse mitmesuguste metallist ja mittemetallist kilede sadestamiseks plastosade pinnale destilleerimise või pihustamise teel vaakumtingimustes. Nii on võimalik saada väga õhukesi pinnakatteid ning samas on neil suur kiirus ja hea nakkuvus. Eelised, kuid ka hind on kõrge, töödeldavaid metalle on vähem ja üldiselt kasutatakse seda kõrgema klassi toodete funktsionaalse kattena, näiteks sisemise varjestusena. Plasttoodete galvaniseerimiseks on kaks levinumat protsessi: vesi galvaniseerimine ja vaakum-ioonplaatimine.

Üldine vaakumgalvaanilise katmise meetod on pritsida materjalile esmalt kruntkiht ja seejärel galvaniseerida. Kuna materjal on plastosa, jäävad survevalu ajal õhumullid ja orgaanilised gaasid ning õhus olev niiskus hingatakse sisse asetamisel. Lisaks, kuna plastpind ei ole piisavalt tasane, ei ole otse kaetud tooriku pind sile, läige on madal, metalli tunnetus on halb ning seal on õhumulle, ville ja muid soovimatuid tingimusi. Pärast krundikihi pihustamist moodustab see sileda ja tasase pinna ning lõpetab mullide ja villide teke plastis endas muudab galvaniseerimise efekti.

Vaakumkroomitud PVD CVD tehnoloogia

Vaakumkatmine on pinnatöötlusprotsess, mille käigus metallid nagu titaan, kuld, grafiit, kristall või mittemetallid, gaasid ja muud materjalid moodustatakse substraadile pihustamise, aurustamise või ioonkattega vaakumis. Võrreldes traditsioonilise keemilise katmismeetodiga on vaakumkatmisel palju eeliseid: näiteks ei saasta keskkonda, see on roheline ja keskkonnasõbralik protsess; ei kahjusta operaatorit; kilekiht on kindel, tihe, tugev korrosioonikindlus ja ühtlane kilepaksus.

Vaakumkatte tehnoloogias sageli kasutatavad meetodid hõlmavad peamiselt järgmist: aurustamine (sh kaareaurustamine, elektronpüstoli aurustamine, takistustraadi aurustamine ja muud tehnoloogiad), pihustuskatmine (sealhulgas alalisvoolu magnetroni pihustamine, keskmise sagedusega magnetroni pihustamine, raadiosageduslik pihustamine ja muud tehnoloogiad) ), nimetatakse neid meetodeid ühiselt füüsiliseks aurustamise-sadestamiseks, lühendatult PVD. Vastav keemiline aurustamine-sadestamine (Chemical Vapor Deposition) on lühendatud kui CVD-tehnoloogia. Tööstuses tavaliselt viidatud "IP" (ioonplaadistamise) ioonkatteks on see, et mitmesugused gaasiioonid ja metalliioonid osalevad kile moodustamise protsessis ja mängivad PVD-tehnoloogias olulist rolli. Ioonide rolli rõhutamiseks nimetatakse neid ühiselt ioonplaadistamiseks. .

www.superbheater.com