Vaakummoodustajatele on vaja aurustumisallikat või aurustumissihtmärki
Jäta sõnum
Vaakummoodustajatele on vaja aurustumisallikat või aurustumissihtmärki
Erinevad katmistehnikad nõuavad aurustusallikat või sihtmärki, et muuta aurustunud kilet moodustav osa gaasiks. Üha suurenevate allikate või sihtmärkidega laieneb filmitegemise materjali valik tunduvalt. Olenemata sellest, kas tegemist on metalli, sulami, ühendi, keraamilise või orgaanilise ainega, saab mitmekihiliste kilede saamiseks aurustada erinevaid metallkilesid ja dielektrilisi kilesid ning aurustada samaaegselt erinevaid materjale.
Vaakumvormimismasina tasakaalustamata magnetroni pihustustehnoloogia
Seetõttu võib magnetronkatmismasin tühjeneda madalama töörõhu ja pinge all ning sihtkasutusmäär on suhteliselt kõrge. Siiski pommitatakse substraadi ala ioonidega vähem, kuna elektronid liiguvad mööda magnetvälja jooni ja piirduvad enamasti sihtpinnaga. Tasakaalustamata magnetroni pihustustehnoloogia kontseptsioon tähendab, et magnetronkatoodi välimise magnetpooluse magnetvoog on suurem kui sisemise magnetpooluse oma, see tähendab, et kahe magnetpooluse magnetvälja jõujooned ei ole täielikult suletud. sihtpinnal ja seal on teatud osa magnetvälja jõujoontest. See ulatub piki sihtmärgi servaosa substraadi alale, nii et osa elektronidest saab ulatuda substraadini mööda magnetvälja jooni, suurendades seeläbi plasma tihedust ja gaasi ionisatsiooni kiirust substraadi piirkonnas. Sõltumata tasakaalustamata tasakaalust, kui magnet on paigal, määravad selle magnetvälja omadused üldise sihtkasutusmäära alla 30 protsendi. Sihtmärgi kasutamise parandamiseks saab kasutada pöörlevat magnetvälja. Kui pöörleva magnetvälja jaoks on vaja pöörlevat mehhanismi, siis pihustuskiirus väheneb. Pöörlevaid magnetvälju kasutatakse enamasti suurte või väärtuslike sihtmärkide jaoks. Näiteks pooljuhtide õhukeste kilede pihustamine. Väikeste seadmete ja üldiste tööstusseadmete jaoks kasutatakse laialdaselt staatilist magnetvälja sihtallikat.
www.superbheater.com
