Vaakumvormimismasina elektronkiirega katmismasina pinnatemperatuur on võrdeline elektronkiire intensiivsusega
Jäta sõnum
Vaakumvormimismasina elektronkiirega katmismasina pinnatemperatuur on võrdeline elektronkiire intensiivsusega
Kilede ja töödeldud osade pinnatemperatuur on võrdeline elektronkiire intensiivsusega. Elektronkiire intensiivsust saab kontrollida hõõgniidi voolu juhtimisega, kontrollides seeläbi õhukese kilematerjali ja töödeldud osade pinnatemperatuuri.
Vaakumvormimismasin elektronkiirega katmismasin peab kõigepealt hõõgniidi eelkuumutama
Kui elektronkiirega katmisseade töötab, tuleb hõõgniit esmalt eelsoojendada. Hõõgniidi eelsoojendusvool on 60-90A ja eelsoojendusaeg on üle 20 minuti. Pärast hõõgniidi kuumutamist suureneb hõõgniidis (katoodis) olevate elektronide potentsiaalne energia, valmistudes elektronide emissiooniks. Sel ajal, kui pinge 20KV]JI~ (2) on sisse lülitatud, hakkab hõõgniit (katood) elektrivälja toimel elektrone kiirgama. Fookussüsteemi, läbipaindepooli ja kiirenduspinge koosmõjul kogutakse hõõgniidi (katoodi) poolt emiteeritud elektronid kiireks ja kiirgatakse väga suure kiirusega töödeldavale kilematerjalile või osale.
Meetmed vaakumplaadistusseadmete kilekihi parandamiseks:
(1) Küpsetage pärast plaadistamist. Pärast viimase kilekihi katmist ärge küpsetamist kohe lõpetage ja jätkake "karastamist" 10 minutit. Muutke kile struktuur stabiilsemaks.
(1) Jahutusaega pikendatakse asjakohaselt ja lõõmutamist vanandatakse. Vähendage vaakumkambri sise- ja välistemperatuuri erinevusest põhjustatud termilist stressi.
(2) Peegelduva kile ja filterkile aurustumisprotsessi ajal ei tohiks substraadi temperatuur olla liiga kõrge ja kõrgel temperatuuril on lihtne termilist pinget tekitada. Ja see avaldab negatiivset mõju titaanoksiidi, tantaaloksiidi ja muude kilematerjalide optilisele stabiilsusele.
(iii) Ioonide abil katmisprotsess stressi vähendamiseks.
(iv) Valige sobiv kilesüsteem, mis sobib esimese kilematerjali kihi ja aluspinna vahel. (Näiteks viiekihiline peegeldusvastane kile kasutab Al2O3-ZrO2-Al2O3-Al2O3-ZrO2-MgF2; ZrO2 võib kasutada ka SV-d -5 (ZrO2 TiO2 segatud kilematerjal) või muu segatud suure murdumisnäitajaga kilematerjal.
(V) Vähendage sobivalt aurustumiskiirust (Al2O3-2.5A/S; ZrO2-3A/S; MgF2-6A/S võrdluskiirus)
(vi) Kõik oksiidkile materjalid on hapnikuga täidetud ja reaktiivselt kaetud ning hapniku sissevõtu kogust reguleeritakse vastavalt erinevatele kilematerjalidele.
www.superbheater.com
